VNX-X3新改进型系列,针对大流量CEDI系统设计的VNX膜堆作为一种清洁、环境友好的技术，相对需要化学药剂再生的混床更有优势。采用大流量的CEDI膜堆可以使系统的配管更少，系统集成更简单。
LX和VNX膜堆均采用平板式结构设计，产水室和浓水室交替排布（见下面的剖析图）。平板式设计相对其它结构的设计（如卷式）而言水流分布和电流分布更均匀。这对膜堆的性能表现和膜堆使用寿命都非常关键
膜堆技术规格
最低产水流量 gpm (m3hr)
25 (5.7)
标准产水流量 gpm (m3hr)
50 (11.4)
最高产水流量 gpm (m3hr)
75 (17.0)
运行参数
典型回收率 (%)
90-95%
最高供水压力 psi (bar)
100 psi (7 bar)
标准压力降 psi (bar)
20-30 psi (1.4-2.1 bar)
供水温度
5-45°C (41-113 ° F)
直流电压
0-600 VDC
直流电流
0-20 A
产水技术规格
产水电阻系数
>16 MΩ-cm
产水二氧化硅含量
90 - 99%去除率
模块规格
产品流速，最小 m3/hr
5.7
产品流速，标称 m3/hr
11.4
产品流速，最大 m3/hr
17.0
操作参数
90-95
最大进料压力，bar
7
标称压降，bar
1.4-2.1
进料温度
5 - 45°C
DC 电压
0-600
DC 安培数
0-19.5
产品水质规格
产品电阻率
>16 megohm-cm
二氧化硅
