端元件通量更高，系统末端的元件通量更低。这种情况不利于系统均衡稳定地运行(使用低压和超低压膜元件有类似的情况)。
44. 在锅炉给水中，硅有什么害处？
在高压锅炉给水中，必须解决含硅的问题。这是因为硅表现出较大的随蒸汽挥发的能力，随后，蒸汽中所含的硅会在透平的低压段，因蒸汽压力的降低，以玻璃态沉积在透平的叶片上，影响透平的效率。活性和胶体两种形式的硅均会引起这种故障，因为在高压锅炉的温度条件下，胶体硅将分解成硅酸盐，然后再蒸发到蒸汽相中。
45. 膜系统能否频繁的启停？
膜系统是按连续运行作为设计基准的，但在实际操作时，总会有一定频度的开机和停机。当膜系统停机时，必须用其产水或经过预处理合格的水进行低压冲洗，从膜元件中置换掉高浓度但含阻垢剂的浓水。还应采取措施预防系统内水漏掉而引入空气，因为元件失水干掉的话，可能会产生不可逆的产水通量损失。如果停机小于24小时，则无需采取预防微生物滋生的措施。但停机时间超过上述规定，应采用保护液作系统保存或定时冲洗膜系统。
46. ROSA5中是否含有自动设计功能？
ROSA5目前没有自动设计功能，计划在将来的ROSA升级版中增加这一功能。
47. 在三段式的系统设计中，能否在第一段使用产水憋压而在第三段之前采用压力提升泵？
当然可以。
48. 怎样设计产水回吸水箱？
在海水淡化系统中有时要设计产水回吸水箱，其所需体积通常由压力容器的体积减去膜元件的体积(考虑元件的空隙率)。
49. 膜元件上安装盐水密封圈其方向怎样确定？
要求膜元件上的盐水密封圈装在元件进水端，同时开口面向进水方向，当给压力容器进水时，其开口(唇边)将进一步张开，完全封住进水从膜元件与压力容器内壁间的旁流。
50. 能否用二氧化氯(ClO2)作为膜系统的杀菌剂？
通常不允许使用二氧化氯作为膜元件的杀菌剂，它与氯的杀菌作用相似，但杀菌效能等于或略高于氯，与溶解氯不同之处在于，ClO2仅作为氧化剂而不起氯的加成反应作用，因而对膜的破坏潜力较低。某些用户曾经在陶氏FILMTEC膜系统中获得过成功的应用，但使用时应该极其小心，因为溶液中金属离子的存在就会催化ClO2对膜的降解反应，只有杀菌剂DBNPA被认为是更加的安全和有效，选用ClO2可能会出现损坏膜性能的结果。
51. 怎样对原来使用老型号纳滤(NF)膜元件的系统更换产水管更大的新系列纳滤元件NF90 - 400，NF270 - 400和NF200 - 400？
你可以将所有的老元件全部放在同一个压力容器内，如你仅打算更换其中的某一支老元件，请定制一个1.125”～1.5”的元件联结件。请与就近的陶氏人员联络以了解有关加工尺寸。
52. 怎样从水中脱除硅？
水中硅以两种形态存在，活性硅(单体硅)和胶体硅(多元硅)：
胶体硅没有离子的特征，但尺度相对较大，胶体硅能被精细的物理过滤过程所截留，如反渗透，也可以通过凝聚技术降低水中的含量，如混凝澄清池，但是那些需要依靠离子电荷特征的分离技术，如离子交换树脂和连续电去离子过程(CEDI)，对脱除胶体硅效果十分有限。
活性硅的尺寸比胶体硅小得多，这样大多数的物理过滤技术如混凝澄清、过滤和气浮等均无法脱除活性硅，能够有效脱除活性硅的过程是反渗透、离子交换和连续电去离子过程。
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